馬曼曼:18913180175
IC行業清洗純水,OLED清洗超純水太陽能光伏用超純水設備,光電行業用超純水設備,半導體行業用超純水設備,單晶硅/多晶硅/硅材料/太陽能電池用工業超純水設備,LCD液晶顯示器純水設備,LED光學超純水設備,玻璃鍍膜配套超高純水設備,光學鏡片清洗用超純水設備,薄膜電池多晶鑄錠超純水設備, EDI電去離子,各行業用超純水處理設備。
特點:在設備設計上,采用成熟、可靠、**、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,全膜法處理工藝:UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。**產品質量的需求!
參數:污染物去除率脫鹽率:99.8% 有機物去除率:>150MW 細菌隔除率:>99% 熱原去除率:>99% 顆粒去除率:>99% 進水要求:污染指數(SDI):<5 余氯:<0.1mg/L PH:5-8
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