出售韓一HVC-2700DA光學鍍膜機 電子束蒸發電鍍機 鞋標真空電鍍膜機 PVC納米鍍膜機 AR高透膜鍍膜機
一,明細介紹:
**6年 - 2018年
EB(電子槍) 1GUN.。韓一 12六
高于源 韓一。(霍爾)
機板泵 愛德華EM275
羅獲系 愛德華EM2600
深冷 韓國V-PLUS1000H
品控 XTC+2個品控
阻蒸 1個
二,鍍膜機操作步驟
打開總開關,包括冷卻水開關和機器開關。
打開鍍膜機總開關,樣品旋轉開關,升降開關按鈕。
將玻璃基板至于樣品托中,導電一面向下。
蒸鍍室、預處理室放氣。
打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向關,逆時針方向開),推拉桿推至大真空室中,將樣品放到推拉桿上,將推拉桿拉回至預處理中。關閉閘板閥(順時關閉,逆時針開)
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一,主要技術指標:
UPS射頻源,精控,單槍,光學膜厚儀監控波長范圍:400-1100nm,波長精度:<±1nm, 配置離子源,離子流密度分布均勻; 基底**加熱溫度:300℃。 目前可淀積材料包括:SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O**l2O3等 蒸發速率0.**/s-20A/s, 工作真空:5E-6mbar, 氣體(Ar、O2)
五,主要功能:
主要用于可見~短波紅外波段光學增透膜、高反膜、截止濾光片,窄帶、超窄帶、極窄帶濾光片等光學薄膜蒸鍍,配備兩把電子槍和等離子體輔助源,一次可蒸鍍多片不同尺寸(1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等)的樣品。
六,真空蒸發鍍膜原理
1.1 將膜材置于真空鍍膜室內 , 通過蒸發源使其加熱蒸發 。 當蒸發分子的平均自由程大于蒸發源與基片間的線尺寸后 , 蒸發的粒子從蒸發源表面上逸出 , 在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子 ( 主要是殘余氣體分子)的碰撞阻礙,可直接到達基片表面上凝結而生成薄膜。
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